为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？
光刻机这东西确实不同于其它机器，它的技术难度超级高，目前顶尖光刻机厂商荷兰的ASML公司，它的很多核心部件也是来自于全球各个相关领域顶尖公司提供，单独靠着一家公司是根本完成不了的。
唱衰国产光刻机？
这里理解角度可能不同，有时候并不是什么唱衰国产光刻机。很多时候也是不能盲目自信，也要认清当前得现实情况。如果当前现实情况都认不清，又何谈能够有所突破。
国产光刻机是以上海微电子装备股份公司为代表，它目前最先进的是90nm，现在正在向着28nm突破，并且根据相关报道有望在2021年交付国产28nm光刻机。而光刻机巨头ASML光刻机目前已经能够做5nm工艺的手机芯片，也在向着3nm方向发展。
单看数字就知道差距有多大，因此说十年都难以赶得上也是没错误的。这并不是什么唱衰国产光刻机发展，这是认清现实。还是前文说的：不要盲目自信，认清自己当前现实情况才能有明确发展方向。这里题主说相关言论少了，其实一方面还是因为这个光刻机热度已经过去了，不再像前段那么热门。
一点解答：国产光刻机目前水平90nm，国产中微半导体的蚀刻机水平5nm，不要把光刻机和蚀刻机搞混。有一部分朋友问中芯国际不是能够量产14nm工艺芯片了？其实目前中芯国际用的还是ASML光刻机，只不过中芯国际没有拿到顶尖的EUV光刻机。
笔者谈国产光刻机
其实对于光刻机这东西，我们很需要提高的就是基础材料工艺。相关的很多东西并不是技术达不到，而是部件工艺达不到，工艺不够顶尖自然做出来机器也是不强。
就像这个光刻机镜头，一直都是德国蔡司公司最强。我们国产镜头根本比不上蔡司，达不到人家那个工艺水准，这些部件的工艺跟不上，也就难以做高精度光刻机。
一方面是基础材料科学，另外还是要重视科研投入、重视人才培养、重视技术积累，另外一方面也是需要各大公司进行合作，这东西单靠一家是万万不行的。
以上仅是笔者个人见解，如有不同的看法欢迎您的讨论探讨，非常感谢您的阅读！
说起前一阵有人唱衰中国造不了出光刻机，我不由想起：
说我们国家是贫油国👋
说我们造不出原子弹👋
说我们造不了航母👋
说我们造不了盾构机👋
说我们造不了高铁👋
说我们造不了……👋👋👋👋
脸被打怕了吧😂
其实我们是：
头被砍了仍会挥干戚，
真的不是光刻机的问题，要对人才和研究创造更好的社会环境，让浮燥的社会宁下来，让人们安居乐业，让专业的人做专业的事，崛起不是某一方面，而是全面发层，厚积薄发，把科学技术沉积下来，别一切都以经济去促发展，钱不是一切，也不能为了钱不顾一切，让社会步入良性发展轨道，那么冬天的尽头就会是百花争艳的春天
感谢邀请
题主问题的核心是为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？我们当初唱衰是因为确实当初中国光刻机制造不行，而且截止到目前为止，确实最强的还是65nm，虽然说中国军队确实还在使用，当然这是为了稳定性和抗干扰能力所以才会用之前的工艺，但是毕竟人家商用都到了EUV7nm，而且今年都开始5nm工艺了，所以我们差距有些大，为啥最近一段时间没有人说了呢，我觉得有以下几个原因：
这个实际我觉得无可厚非，因为美国限制的意义就是不让所有使用美国技术的企业给话为提供芯片制造，以及元器件等等，但是华为现在很多做到了，比如就拿今年的华为P40系列来说，他只有用了一个美国的元器件，那就是射频前端，而其他的就没有了。
而在今年美国再次限制，意思很明显，那就是之前的限制对于华为来说，都在慢慢的破解，比如就拿国外的google的GMS服务，而华为用自家的HMS服务答题，而且华为鸿蒙系统，出现这是势在必得的。
所以现在只有芯片了，我们也只能靠着台积电，但是台积电确实光刻机是来自于荷兰，而荷兰光刻机有美国的技术，不如刻量单位等等还有很多确实都是使用美国技术的，因为本身ASML做那么大就是因为使用了各个国家最好的技术。
所有我们希望国内最强的上海微电子可以快点发展起来，这也是为啥补偿衰的原因了。
实际我们知道现在上海微电子还是在65nnm这是他最成熟的工艺，而这次28nm的到来确实不是最强的，但是对于国内来说这已经是很不错了，如果美国限制开始，实际这是纯国产最强的工艺。
